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使用单一研抛工具、可变公转半径的面形误差加工方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: ZL202211212666.4, 申请日期: 2023-06-20,
发明人:  李博;  周健杰
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一种基于主动压力调制的阵列研磨方法(授权发明) 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: ZL202110317379.9, 申请日期: 2022-11-22,
发明人:  郑奕;  梁斌;  李颖
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光学镜面数控研抛加工路径研究 学位论文
, 北京: 中国科学院大学, 2021
作者:  岳孝悌
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光学制造  镜面加工  计算机控制光学表面成形  环带提取  路径规 划  
气囊抛光非球面工艺设计及参数优化研究 学位论文
, 北京: 中国科学院大学, 2019
作者:  厉宏兰
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气囊抛光  非球面  工艺设计  光学检验  参数优化  
用于碳化硅光学镜面改性与面形提升的磁控溅射扫描方法(授权发明) 专利
专利类型: 发明, 专利号: ZL201810144019.1, 申请日期: 2018-02-12, 公开日期: 2020-01-21
发明人:  王晋峰;  黄猛;  田杰;  王烨儒
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