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一种基于主动压力调制的阵列研磨方法（授权发明） 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: ZL202110317379.9, 申请日期: 2022-11-22,
发明人:  郑奕;  梁斌;  李颖
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离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法 期刊论文
应用光学, 2011, 卷号: 32, 期号: 5, 页码: 888-894
作者:  郭伟远;  成贤锴;  梁斌
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离子束抛光  驻留时间  矩阵运算  计算机控制光学表面成形