| 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法 | |
郭伟远 ; 成贤锴; 梁斌
| |
| 2011-09 | |
| 发表期刊 | 应用光学
 |
| 卷号 | 32期号:5页码:888-894 |
| 摘要 |
在离子束抛光工艺中，驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候，是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工，加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜面面型的精度，首先多次用系数法得到比较理想且平滑的镜面面型，然后再用消去法精修面型。这种算法运算速度快，得到的面型精度高且较平滑。对这种综合算法进行仿真分析，比较了理想高斯函数与实际加工函数加工后的差别，同时比较了运用消去算法与综合算法得到的镜面面型，ＰＶ 值由８３.６３ｎｍ减小到４６.９２ｎｍ，镜面精度提高了很多。 |
| 关键词 | 离子束抛光 驻留时间 矩阵运算 计算机控制光学表面成形 |
| 学科领域 | 天文镜面（材料、加工、检测） |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/527 |
| 专题 | 期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭伟远,成贤锴,梁斌. 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法[J]. 应用光学,2011,32(5):888-894. |
| APA | 郭伟远,成贤锴,&梁斌.(2011).离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法.应用光学,32(5),888-894. |
| MLA | 郭伟远,et al."离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法".应用光学 32.5(2011):888-894. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法.pd（891KB） | 开放获取 | CC BY-NC-ND | 浏览 下载 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [郭伟远]的文章 |
| [成贤锴]的文章 |
| [梁斌]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [郭伟远]的文章 |
| [成贤锴]的文章 |
| [梁斌]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [郭伟远]的文章 |
| [成贤锴]的文章 |
| [梁斌]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论