| 光学合成孔径成像技术的ｕｖ覆盖与孔径排列研究 | |
林燮佳 ; 吴桢
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| 2012-01 | |
| 发表期刊 | 应用光学
 |
| 卷号 | 33期号:1页码:30-37 |
| 摘要 |
从地平坐标系和时角坐标系出发，运用坐标旋转公式推导出光学合成孔径成像技术中干涉阵排列和ｕｖ覆盖之间的几何关系式，以特定观测天区为例，在南京模拟三孔径Ｙ型阵，并运用蒙特卡洛法对２个目标函数分别优化，将其优化结果进行比较，找到比较适合该文的目标函数。 |
| 关键词 | 长基线 干涉阵排列 Ｕｖ覆盖 蒙特卡洛 光学合成孔径 |
| 学科领域 | 恒星光干涉及综合孔径 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/533 |
| 专题 | 期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 林燮佳,吴桢. 光学合成孔径成像技术的ｕｖ覆盖与孔径排列研究[J]. 应用光学,2012,33(1):30-37. |
| APA | 林燮佳,&吴桢.(2012).光学合成孔径成像技术的ｕｖ覆盖与孔径排列研究.应用光学,33(1),30-37. |
| MLA | 林燮佳,et al."光学合成孔径成像技术的ｕｖ覆盖与孔径排列研究".应用光学 33.1(2012):30-37. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 光学合成孔径成像技术的uv覆盖与孔径排列（2090KB） | 开放获取 | CC BY-NC-ND | 浏览 下载 | |||
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