| 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法 | |
郭伟远 ; 成贤锴; 梁斌
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| 2011-09 | |
| Source Publication | 应用光学
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| Volume | 32Issue:5Pages:888-894 |
| Abstract |
在离子束抛光工艺中，驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候，是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工，加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜面面型的精度，首先多次用系数法得到比较理想且平滑的镜面面型，然后再用消去法精修面型。这种算法运算速度快，得到的面型精度高且较平滑。对这种综合算法进行仿真分析，比较了理想高斯函数与实际加工函数加工后的差别，同时比较了运用消去算法与综合算法得到的镜面面型，ＰＶ 值由８３.６３ｎｍ减小到４６.９２ｎｍ，镜面精度提高了很多。 |
| Keyword | 离子束抛光 驻留时间 矩阵运算 计算机控制光学表面成形 |
| Subject Area | 天文镜面（材料、加工、检测） |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/527 |
| Collection | 期刊论文 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 郭伟远,成贤锴,梁斌. 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法[J]. 应用光学,2011,32(5):888-894. |
| APA | 郭伟远,成贤锴,&梁斌.(2011).离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法.应用光学,32(5),888-894. |
| MLA | 郭伟远,et al."离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法".应用光学 32.5(2011):888-894. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法.pd（891KB） | 开放获取 | CC BY-NC-ND | View Download | |||
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