| 一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法 | |
王晋峰 ; 田杰
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| 2023-03-31 | |
| Rights Holder | 南京天文光学技术研究所 |
| Country | 中国 |
| Subtype | 发明专利 |
| Abstract | 本发明公开了一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法,其步骤包括：在光学元件的前表面进行主膜系的镀制；在光学元件的后表面进行一次镀膜,即镀制用于抵消光学元件面形变化的抵消膜层；对抵消膜层进行均匀减薄,控制减薄厚度,根据面形精度控制需要,每减薄5nm-50nm,进行一次光学元件表面面形的检测,直至接近或达到镀膜前的面形精度。本发明由于采用均匀减薄的可控技术,使得光学元件接近或达到镀膜前的面形精度,对于现有技术而言是无法达到的；由于用于抵消的膜层厚度只进行了一次镀膜,高质量光学元件表面质量得以保证；本发明的方法无需进行反向抛光补偿膜系应力变形,大大提高了大口径高精度光学元件的生产效率。 |
| Subject Area | 天文技术与方法 |
| Application Date | 2021-08-20 |
| Patent Number | ZL202110959643.9 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/2133 |
| Collection | 中国科学院南京天文光学技术研究所知识成果 专利 |
| Affiliation | 南京天文光学技术研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 王晋峰,田杰. 一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控方法. ZL202110959643.9[P]. 2023-03-31. |
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| 一种大口径高精度光学元件膜层应力形变调控（12697KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Download | ||
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