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一种基于主动压力调制的阵列研磨方法(授权发明)
郑奕; 梁斌; 李颖
2022-11-22
Rights Holder中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所
Country中国
Subtype发明专利
Abstract

本发明公开了一种基于主动压力调制的阵列研磨方法,包括:准备研磨工具;测量获得待加工镜面的误差分布,根据研磨工具标准工作条件下的磨削特性,计算单个磨盘的驻留时间;根据研磨工具的空间布局将驻留时间表划分成没有间隙的子驻留时间表,每个研磨工具按照子驻留时间表负责子区域的加工;根据子驻留时间表生成扫描子区域的路径文件,将驻留时间转换成驻留压力生成压力控制表;将路径文件放入镜面扫描设备中运行,将压力控制表放入研磨工具的控制系统中同步运行。本发明通过密集排布小口径研磨工具,来增加有效研磨面积;通过主动压力调制,实现定量研磨;通过将镜面划分成若干个子区域,增加加工的并行性,实现了加工效率的提升。

Subject Area天文技术与方法
Application Date2021-03-25
Patent NumberZL202110317379.9
Language中文
Status已授权
Application NumberCN202110317379.9
Document Type专利
Identifierhttp://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/2025
Collection专利
中国科学院南京天文光学技术研究所知识成果
Affiliation南京天文光学技术研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
郑奕,梁斌,李颖. 一种基于主动压力调制的阵列研磨方法(授权发明). ZL202110317379.9[P]. 2022-11-22.
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