| 一种基于主动压力调制的阵列研磨方法（授权发明） | |
郑奕 ; 梁斌; 李颖
| |
| 2022-11-22 | |
| 专利权人 | 中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 本发明公开了一种基于主动压力调制的阵列研磨方法,包括：准备研磨工具；测量获得待加工镜面的误差分布,根据研磨工具标准工作条件下的磨削特性,计算单个磨盘的驻留时间；根据研磨工具的空间布局将驻留时间表划分成没有间隙的子驻留时间表,每个研磨工具按照子驻留时间表负责子区域的加工；根据子驻留时间表生成扫描子区域的路径文件,将驻留时间转换成驻留压力生成压力控制表；将路径文件放入镜面扫描设备中运行,将压力控制表放入研磨工具的控制系统中同步运行。本发明通过密集排布小口径研磨工具,来增加有效研磨面积；通过主动压力调制,实现定量研磨；通过将镜面划分成若干个子区域,增加加工的并行性,实现了加工效率的提升。 |
| 学科领域 | 天文技术与方法 |
| 申请日期 | 2021-03-25 |
| 专利号 | ZL202110317379.9 |
| 语种 | 中文 |
| 专利状态 | 已授权 |
| 申请号 | CN202110317379.9 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/2025 |
| 专题 | 专利 中国科学院南京天文光学技术研究所知识成果 |
| 作者单位 | 南京天文光学技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郑奕,梁斌,李颖. 一种基于主动压力调制的阵列研磨方法（授权发明）. ZL202110317379.9[P]. 2022-11-22. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 一种基于主动压力调制的阵列研磨方法.pd（20103KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | ||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [郑奕]的文章 |
| [梁斌]的文章 |
| [李颖]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [郑奕]的文章 |
| [梁斌]的文章 |
| [李颖]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [郑奕]的文章 |
| [梁斌]的文章 |
| [李颖]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论