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Magnetron sputtering scanning method for modifying silicon carbide optical reflector surface and improving surface profile（授权发明） 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: US 11,339,468 B2, 申请日期: 2022-05-24,
发明人:  王晋峰;  黄猛;  田杰;  王烨儒
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