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Magnetron sputtering scanning method for modifying silicon carbide optical reflector surface and improving surface profile（授权发明） 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: US 11,339,468 B2, 申请日期: 2022-05-24,
发明人:  王晋峰;  黄猛;  田杰;  王烨儒
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用于碳化硅光学镜面改性与面形提升的磁控溅射扫描方法（授权发明） 专利
专利类型: 发明, 专利号: ZL201810144019.1, 申请日期: 2018-02-12, 公开日期: 2020-01-21
发明人:  王晋峰;  黄猛;  田杰;  王烨儒
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