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一种主动压力抛光光学磨镜设备的压力控制器（新型） 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN200320123268.1, 申请日期: 2004-12-29, 公开日期: 2004-12-29
发明人:  汪达兴;  王磊
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High resolution spectrograph with R4 Echelle for LAMOST 会议论文
Ground-based Instrumentation for Astronomy, Glasgow, Scotland, 2004-6-21
作者:  Yongtian Zhu;  Xuhua Wu;  Lei Wang;  Qiufeng Luo
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Spectrograph  High Resolutio  Echelle Grating